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本ガイドは，抑制ツールでのF-GHGの仕様に適用される。
SEMI S1-90 (technical revision)
SEMI E148-0309 (technical revision)
1記載の手動操作用ドア
M07800 - SEMI M78 - 量産時における130nmから22nm世代のパターンなしシリコンウェーハ上のナノトポグラフィー決定に関するガイド Revision:SEMI M78-1110 - Superseded 本ガイドは，抑制ツールでのF-GHGの仕様に適用される。global Silicon Wafer Committee2010827global Audits and Reviews Subcommittee201010www. semi. org 2003(CMP)CMP ( 1) Referenced SEMI Standards SEMI M1 Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers SEMI M20 Practice for Establishing a Wafer Coordinate System SEMI M43 Guide for Reporting Wafer Nanotopography SEMI M49 Guide for Specifying Geometry Measurement Equipment for Silicon Wafers for the 130 nm to 22 nm Technology Generations SEMI M59
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