M05600 - SEMI M56 - 計量装置の測定変動と偏りに起因する費用成分の作業法 StdPbc-0522 注意： 「注」の表題のついた段落は，本スタンダードの公式な一部ではなく，またスタンダード本文の内容の変更や書き換えを意図したものではない。スタンダードの利用を促進するために委員会が提供したものである。

注意： 「注」の表題のついた段落は，本スタンダードの公式な一部ではなく，またスタンダード本文の内容の変更や書き換えを意図したものではない。スタンダードの利用を促進するために委員会が提供したものである。

including jigs and some consumable materials

キャリアIDリーダ／ライタインタフェーススタンダードは上位コントローラを持っている包括的なキャリアIDリーダ／ライタインタフェースに関する機能的な要求条件を扱う。

The developmental wafers covered by this specification are intended for use in research and development of process and metrology equipment and fabrication processes required for manufacturing high-density integrated circuits on 450 mm diameter single crystal silicon wafers

M05600 - SEMI M56 - 計量装置の測定変動と偏りに起因する費用成分の作業法 StdPbc-0522 注意： 「注」の表題のついた段落は，本スタンダードの公式な一部ではなく，またスタンダード本文の内容の変更や書き換えを意図したものではない。スタンダードの利用を促進するために委員会が提供したものである。global Silicon Wafer Committee20061121global Audits and Reviews Subcommittee20072www. semi. org20073CD ROM200311 11 P TP T Referenced SEMI Standards SEMI E35 Guide to Calculate Cost of Ownership (COO) Metrics for Semiconductor Manufacturing Equipment SEMI E89 Guide for Measurement System Analysis (MSA) SEMI M1 Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers S EMI M59 Terminology for Silicon Technology